箱式真空镀膜机

采用箱式结构，真空系统后置，便于操作和维修；整机表面平整，方便清洁，特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。

设备真空系统抽速大，具有抽气时间短，真空度高，生产周期短等优点。

采用管状加热器上烘烤，烘烤温度均匀，寿命长，可达到烘烤温度350℃，烘烤均匀性270℃±10℃。

工件转动采用上部中心驱动，轴承带水冷，磁流体密封，转动平稳可靠。

采用石英晶体膜厚控制仪，可实现镀膜过程的自动控制。

采用先进的镀膜控制系统，人机操作界面美观实用，系统稳定可靠，可实现系统的手动、半自动和全自动操作。

适用范围:用于生产IR-CUT滤光片、分色滤光片、高反射膜、AR膜、长波通、短波通和多种电学薄膜

真空镀膜设备中频磁控溅射知识源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。

真空镀膜机真空室形变带来的影响为尽量减小真空镀膜机真空室形变带来的影响，我们将导轨、丝杆等传动件固定于一个刚性的中间层上，其与真空室底壁之间采用点、线、面活性支撑，以吸收和隔离形变，并设置形变补偿调节机构，在系统抽真，参照有限元计算提供的理论数据预设适当的补偿量，以使其在真空状态下达到平衡。为了验证有限元计算的结果，对真空室的形变和补偿进行了测试。步，将四只千分表定位在工作台安装基点的真空壁外侧，当真空室由大气抽到真空时，记录各千分表的变化量，经化处理后为用激光自准直仪调变补偿。