中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术介绍

很多人不知道，磁控溅射真空镀膜机镀膜技术也分类型的，镀的产品不一样，使用的磁控溅射技术也是有差别，今天至成真空小编为大将讲解一下中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术，希望能帮到大家。

中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术分靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。

用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入Ar气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。

双色真空镀膜机PVD技术的应用范围及优缺点

很多人对真空镀膜机PVD技术的了解不是特别全，也不知道具体是应用到哪些行业，以及它在实际运用过程有哪些优缺点?至成真空小编现在详细和大家介绍一下:

真空镀膜机PVD技术其应用范围是：

1）碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料；

2）金属材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空镀膜机PVD技术其优点是:

与传统磁控溅射单色PVD技术相比，双色PVD工艺更为复杂，流程更为繁杂，生产难度高，但外观效果，两种颜色的表面硬度都在HV600以上。传统磁控溅射单色PVD技术要在实现双色效果，采取的工艺措施是在整体PVD单色的基础上把需要实现另一种颜色的区域激光镭雕掉或者磨掉。新加工出来的区域就只能表现金属的本色，表面硬度也就是金属本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度为HV600以上）。

中频磁控 多弧离子溅射镀膜机特点

中频磁控 多弧离子溅射镀膜机具有：结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于切削刀具如齿轮滚刀，插刀，铣刀，钻头等表面沉积超硬涂层，也可用于钟表，眼镜架，手机壳、锁具，洁具等各类小五金表面沉积装饰涂层，本设备可实现一机多用沉积多种膜层，膜层细腻，有纯钛（Ti）氮化钛（TiN）氧化钛（TiO）纯锆（Zr）氮化锆（ZrN）碳化钛（TiC）纯铬（Cr）氮化铬（CrN）碳氮化钛（TiCN）氮化铝钛（TiAlN），PVD镀膜膜层目前常见的颜色主要有：深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色,蓝色等。亮度好，饱满度好

至成真空科技可以根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。