镀膜设备的镀膜方式及特点

镀膜设备就是在高真空状态下通过高温将金属铝熔化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽的设备。真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。

镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀，镀膜设备的特点：成膜速度快0.1-50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。

镀膜设备类型：

—空气：(1)进口和出口区配备动态锁定辊系统，确保带材不间断运动(2)带材缓冲器、连接和分离装置以及放置于镀膜机前、后端大气中的放卷机和收卷机，以保证连续生产(3)生产周期仅受限于靶材/真空腔体内蒸发物储存量

—分批式：(1)真空工艺区入口和出口处连接的卷轴装载锁定腔体，使用带材阀隔开(2)可在不中断工艺真空的前提下装载和卸载卷轴(3)生产周期为1卷轴的时间，然后停止，进行卷轴更换；带材废料长度约为工艺部分的两倍(4)电子束工艺配备额外的档板，用以补偿卷轴更换

镀膜模式：单面镀膜：(1)所有镀膜工具均位于带材的一侧(2)使用电子束(EB)工艺时，（一般情况下）带材的底侧将被镀膜双面镀膜：(1)镀膜工具均位于带材的一侧，卷材改变走带方向(2)需要二次镀膜与传动装置配备

非接触式镀膜选项针对敏感的光学镀膜，提供非接触式机器概念。

镀膜过程中产生喷点主要有以下几种原因:

1、镀膜材料纯度不高，含杂质较多,预熔过程中无法将这些杂质去除,蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。

2、材料较为潮湿,预熔时电子枪光斑不能将表面的材料全部熔化,在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀制MgF2及一些直接升华的材料时较易发生)。

3、镀膜前对材料进行预熔时不够充分,蒸镀过程中材料里的细小颗粒溅上工件表面形成喷点。

4、镀膜过程中,电子枪束流过大引起的材料飞溅产生的喷点。